مراحل ساخت

تجهیزات

خدمات

دقت

آماده سازی نمونه ها

بریدن نمونه ها با دستگاه برش Dicer

-

-

شستشو نمونه ها

با محلول RCA

-

-

با استون

-

-

DCM

-

-

استفاده از سیستم های لایه نشانی و لایه برداری

لایه نشانی با دستگاه باریکه الکترونی

Cr, Si, SiO2, Ni, Al, Cu, Ge, Ag, Au , In, Ti, Si

0.1 nm

لایه نشانی با دستگاه Sputtering

Cr, Si, SiO2, Ni, Cu, Ge, Au, ITO, Al2O3, Zn, ZnO2, Ti

1 nm

لایه نشانی با دستگاه   تبخیر خلا

Al, Au, Ge, Ag

10 nm

لایه نشانی با دستگاه PE-CVD

Si, SiO2, SiONx

1 nm

لایه نشانی با دستگاه LP-CVD

Si, Si3N4

5 nm

رشد  اکسید سیلیکان با کوره

Wet

تا 2 um

Dry

تا 150 nm

دستگاه  RIE

زدایش عمودی Si

-

زدایش غیر همسانگرد

Si

-

Ashing

Passivation

-

زدایش سیلیکون ویفر با دستگاه با استفاده از محلول KOH

زدایش Si (100) و (111)

-

زدایش عمودی پلاستیک PET

-

-

رشد نانولوله ها

رشد عمودی نانولوله های کربنی روی بستر سیلیکان

زیر لایه :

Si, Au, Quartz

-

اسپین  کردن

Spinner

انواع پلیمرها

تا 8000 rpm

لیتوگرافی

طراحی ماسک

نرم افزار :

Free-hand, Corel Draw

-

تولید ماسک با استفاده از سیستم Mask Maker

مرتبه اول

Size:

12 mm

5 um

مرتبه دوم

Size:

3 mm

1 um

لیتوگرافی ماسک با استفاده از سیستم Mask Aligner و زدایش لایه ها بر اساس تعداد لایه ها

Size: 10 cm

بیشتر از um10

کمتر از um10

الاین کردن ماسک ها

Size: 5 cm

2 um

تولید آلاینده ها

Doping

بور

-

1015-1019

Doping

فسفر

-

1015-1019

انیل کردن لایه ها

در کوره خلا

-

550 oC

در کوره اتمسفر

-

1200 oC

مشخصه یابی

I-V

(-110 to 110 V)

(-100 to 100 mA)

تمام مواد

-

C-V

تمام مواد

-

Four Point Probe

تمام مواد

-

ضخامت سنج Dek Tak

-

5nm – 60 um

تصویر برداری

میکروسکوپ اپتیکی x1600

-

1 um

میکروسکوپ FE-SEM

-

5 nm


شرایط انجام پروژه :

1- داشتن معرفی نامه از طرف مدیر پروژه (شرکت، سازمان، موسسه، پژوهشکده ...)  و در صورت دانشجو بودن داشتن معرفی نامه از استاد راهنما الزامی است.

2- 50 % مبلغ پروژه به عنوان پیش پرداخت قبل از انجام کار دریافت می­گردد.

3- مابقی مبلغ پروژه زمان تحویل کار دریافت می گردد.

4- حضور دانشجو و افراد متفرقه در زمان انجام کار در clean room ممنوع می­باشد.

5- حداکثر زمان تحویل کار در پروژه های ساده دو هفته می باشد .

You are here:

Thin Film Laboratories,

Electric & Computer Engineering Department,

Faculty of Engineering, Campus #2
University of Tehran
Kargar Shomali St. (Passed the Jalal-Al-Ahmad St.,
Across the Ninth Lane)
Tehran, Iran

Tel : +98 21 8020403   Ext.3545